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玻璃稀土研磨粉

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稀土抛光粉在眼镜玻璃抛光中研磨条件的研究-。韩敬华;冯国英;杨李茗;刘义彬;朱海波;刘民才;绍鹏;;抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度的影响[J];光学技术;2006年04期 韩敬华;杨李茗;刘民才;刘义彬;忠凯;高耀辉;冯国英;;光学加工过程中抛光粉参量的变化规律及其对抛光效果的影响[A];第十七届全国激光学术会议论文集[C];2005年 谭刚;;纳米CeO_2抛光料对硅晶片进行化学机械抛光的研究[A];中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集(一)[C];2005年 徐清兰,伍凡,吴时彬,家金,雷柏平,兰秀清,张晶;单晶硅镜面超光滑表面工艺技术研究[J];光电工程;2003年05期 曹冲,冯国英,杨李茗,岚,高耀辉,朱海波,陈建国;影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟[J];光电工程;2004年04期。

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光学玻璃精研磨专用稀土抛光粉 RE0450系列 白色_化工。型号:RE0450应用光学镜头(照相机、摄影机、显微镜、望远镜、仪器透镜、仪器棱镜)、石英玻璃眼镜镜片、LCD玻璃面板。完全可以取代进口的抛光粉。◆抛光粉具有切削力高、抛光速度快、使用寿命长、悬浮性较好、不起泡、粒度分布窄、手感细腻、无大颗粒、无机械杂质、对产品无划伤无刻痕、易清洗、一致性好等。產品用途:适用于磨耗度150以內的精密光學透鏡冷加工,抛光速度快,无划伤,粒度均勻,易清洗,悬浮性好,不易沉淀。◆粒度均匀、粉体分布范围窄,颗粒不超过8μm;本系列产品,晶粒精细均匀、悬浮性好,具有较强的抛光效率,适用于球面、平面高速抛光,并对软、硬材质的抛光都适应,具有通用性。抛光浓度:应采用精密光学抛光常用浓度。抛光垫材料:适用于各种抛光模材料抛光温度:25~35℃包装:20kg∕。

稀土抛光粉在眼镜玻璃抛光中研磨条件的研究 。稀土抛光粉在眼镜玻璃抛光中研磨条件的研究 李学舜,杨国胜,崔凌霄 (包头天骄清美稀土抛光粉有限公司,内蒙古包头 014010) 摘要:采用正交试验设计和方差分析的方法,研究了稀土抛光粉 抛光眼镜玻璃过程中,中位径、晶粒大小和料浆浓度等因素对抛光 过程的影响。利用库尔特粒度仪、x射线衍射仪、zxz—I型真空泵和 双轴复面曲精度抛光机等设备考察分析了稀土抛光粉的各项物理 指标和研削能力。结果表明:对于普通光白玻璃片的抛光,稀土抛光 粉的中位径在2.5~4.5斗m之间,晶粒大小在550A左右,抛光粉料 浆浓度为250 g/L时,其抛光效率。 关键词:稀土抛光粉;眼镜镜片;抛光条件 中图分类号:TD983 文献标识码:A 文章编号:l008—5548(2004)03—0037—06 Study 。

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