半自动硅片清洗机 - 苏州美斯达超声波设备有限公司 - 中国化工设备网。l 氧化前自动清洗：氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。l 抛光后自动清洗：除去切、磨、抛的沾污。l 外延前清洗：除去埋层扩散后的Sio2及表面污物。l 合金前、表面钝化前清洗：除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。l 离子注入后清洗：除去光刻胶，sio2层。l 扩散预淀积后清洗：除去预淀积后时的BSG和PSG.l CVD后清洗：除去CVD过程中的颗粒。l 附件及工具的清洗：除去表面所有的沾污物。科伟达（KEEPAHEAD）是一家专业从事超声波精密清洗设备、电镀设备、纯水设备、超声波塑焊机的研发、制造、营销及服务于一体的大型企业。自上世纪90年代中期成立以来，科伟达人秉承 科技、创新无限 的企业精神；本着 以人为本、精勤服务、内联外引、创造 的经营理念；凭借的技术开发平台及精湛的制造能力。
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半导体硅片光刻清洗机设备工作台(CGB-XXXX-XX) - 北京华林嘉业科技有限公司 。1.本设备是光刻清洗台，适用于4-6英寸半导体硅片清洗工艺。 2.整机由机台、操作台面、清洗槽体、温度控制系统，排风、机台照明、电气控制系统等组成。机身包板为德国PP板。瓷白色，整洁美观。 3.共3个槽体水浴加热槽2个，排水槽1个 4. 本半导体硅片光刻清洗机设备的左、右前方各配置PP材料的水枪、气qiang各2把 5.PLC控制器 6.声光提示、报警功能 7. 设备照明：20W封闭日光灯 8. DIW氮气(N2) 管路 、洁净空气管路、自来水管、 药液排放管、排气管路、 排水管布局简洁合理。。
关于对2014年度武汉市技术转化项目评审结果进行公示的通知。根据《武汉市技术转化项目管理办法》、《市知识产权局 市财政局关于组织申报2013年武汉市技术转化项目的通知》文件精神，经过对申报项目的初审、复审和现场复核，并根据资金情况及加强项目管理的要求，现拟定51个项目为2014年度武汉市技术转化项目，并予以公示。如有单位或个人对此有异议，请于公布之日起7日内向武汉市知识产权局处提出。公示时间：2014年3月14日2014年3月20日公示电话：（027）65692012 联 系 人： 丁科 武汉市知识产权局 2014年3月14日2014年度武汉市技术转化项目名单 一种枯草芽孢杆菌及1万亿活芽孢每克枯草芽孢杆菌原粉的制备方法 ZL8.0 4G城市门户 掌上市民之家汇热点新闻，知市政动态，用免费WiFi，查实时交。
